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SHL(三和联)离子束刻蚀机的特点

时间:2025-04-01     作者:三和联-半导体设备专家【原创】

       离子束刻蚀是一种高精度、高效率的微纳加工技术,广泛应用于半导体、光电子、微机电系统(MEMS)、纳米技术等领域,是带能粒子溅射刻蚀。IBE通过调控离子束能量与通量,实现对材料的去除。该技术几乎可以实现对全材料的刻蚀,通过对工艺参数的调节,可以实现对多种材料等速同时去除;此外,加入特定的工艺气体,可以实现对材料的离子辅助反应刻蚀。

三和联离子束刻蚀

       该系列产品具有如下特点:

       1.基于工控机的控制方案,自主开发的全自动控制系统,可高度定制化;

       2.机台配置灵活,可作为专用机台也可以用于多用途机台;

       3.模块化设计,维护与升级极其方便;

       4.工艺性能优越稳定。


       北京三和联科技有限公司专业从事半导体微纳设备研发与生产,为您一站式解决需求。



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