专业   专注   先进   创新

首页 >> 新闻 >>公司新闻 >> 北京三和联科技有限公司关于物理气相沉积机台(PVD)研发取得突破性进展
详细内容

北京三和联科技有限公司关于物理气相沉积机台(PVD)研发取得突破性进展

时间:2025-03-17     作者:三和联-半导体设备专家【原创】

北京三和联科技有限公司关于物理气相沉积机台(PVD)研发取得突破性进展


       北京三和联科技有限公司专业从事半导体设备系列产品研发、生产、销售与售后服务,行业经验超过15年。面对中国高端工业的迅猛发展,工业体系对于半导体设备方面的要求越来越高。物理气相沉积机台(PVD)是三和联公司系列产品中的重要产品,随着客户对于物理气相沉积机台精准度要求的提高,近年来北京三和联公司研发部对物理气相沉积机台(PVD)的投资逐步加大。


北京三和联


       物理气相沉积机台(PVD)主要用于在真空条件下通过物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,然后在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄。


       经过多年的研发与调试,2025年3月15日,北京三和联科技有限公司在物理气相沉积机台(PVD)的温度把控及提高零部件的耐磨性和耐腐蚀性‌方面取得巨大进展,为打造产品升级迈进了坚实的一步。


       物理气相沉积机台(PVD)在航空航天、电子工业、光学科技及机械制造行业起到至关重要的作用。三和联,为祖国科技工业发展助力。



  • 电话直呼

    • 18910215538
    • 18910716338
    • 17601077242
    • 18910215538
  • 扫一扫,添加客服

技术支持: 酷站科技 | 管理登录
seo seo