干法刻蚀
物理气相沉积
化学气相沉积
清洗机
电阻丝蒸发镀技术电阻丝蒸发镀技术是在真空室内通过电阻丝加热SiO，实现高达1700℃的温度。溅射法溅射法，又称磁控溅射法或高速低温溅射法，通过单元素靶材溅射并加入反应气体，进行反应溅射。磁控溅射法的设备简单，操作方便，只需保持工作气压和溅射功率恒定，即可获得稳定的沉积速率。
干法刻蚀的工艺流程通常包括以下几个步骤：;前处理;：对刻蚀材料进行预处理，如形成氧化膜或沉积金属膜，并通过光刻技术形成光刻胶掩模。;等离子体刻蚀;：将加工后的晶圆放置在刻蚀设备中，抽真空并引入适当的刻蚀气体。通过射频电源激发气体形成等离子体，开始刻蚀。;过刻蚀与选择比控制;：刻蚀完成后，进行适量的过刻蚀以确保所有刻蚀区域完全去除材料。选择比控制是关键，定义了刻蚀过程中材料去除的选择性。
北京三和联科技有限公司2013年成立于北京昌平区，注册资金500万元整。经过多年发展我司在半导体设备行业获得广发客户一致好评。北京三和联科技有限公司，为中国高端工业发展助力。北京三和联科技有限公司2013年成立于北京昌平区，注册资金500万元整。公司自成立之初一直致力于半导体工艺装备研发销售、半导体微纳加工工艺研发、集成真空系统设计定制装调
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