北京三和联科技有限公司关于物理气相沉积机台（PVD）研发取得突破性进展
作者：
三和联-半导体设备专家
【
原创
】
2025-03-17
北京三和联科技有限公司关于物理气相沉积机台（PVD）研发取得突破性进展
北京三和联科技有限公司专业从事半导体设备系列产品研发、生产、销售与售后服务，行业经验超过15年。面对中国高端工业的迅猛发展，工业体系对于半导体设备方面的要求越来越高。物理气相沉积机台（PVD）是三和联公司系列产品中的重要产品，随着客户对于物理气相沉积机台精准度要求的提高，近年来北京三和联公司研发部对物理气相沉积机台（PVD）的投资逐步加大。
物理气相沉积机台（PVD）主要用于在真空条件下通过物理方法将材料源（固体或液体）表面气化成气态原子或分子，或部分电离成离子，然后在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄。
经过多年的研发与调试，2025年3月15日，北京三和联科技有限公司在物理气相沉积机台（PVD）的温度把控及提高零部件的耐磨性和耐腐蚀性方面取得巨大进展，为打造产品升级迈进了坚实的一步。
物理气相沉积机台（PVD）在航空航天、电子工业、光学科技及机械制造行业起到至关重要的作用。三和联，为祖国科技工业发展助力。
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