SHL（三和联）离子束刻蚀机的特点
作者：
三和联-半导体设备专家
【
原创
】
2025-04-01
离子束刻蚀是一种高精度、高效率的微纳加工技术，广泛应用于半导体、光电子、微机电系统（MEMS）、纳米技术等领域，是带能粒子溅射刻蚀。IBE通过调控离子束能量与通量，实现对材料的去除。该技术几乎可以实现对全材料的刻蚀，通过对工艺参数的调节，可以实现对多种材料等速同时去除；此外，加入特定的工艺气体，可以实现对材料的离子辅助反应刻蚀。
该系列产品具有如下特点：
1.基于工控机的控制方案，自主开发的全自动控制系统，可高度定制化；
2.机台配置灵活，可作为专用机台也可以用于多用途机台；
3.模块化设计，维护与升级极其方便；
4.工艺性能优越稳定。
北京三和联科技有限公司专业从事半导体微纳设备研发与生产，为您一站式解决需求。
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